Imec展示首個采用EUV光刻技術(shù)的晶圓級固態(tài)納米孔制造工藝

2025-12-10 09:29 來源:美通社 作者:電源網(wǎng)

這項突破性技術(shù)使生命科學和醫(yī)療保健領域?qū)崿F(xiàn)可擴展、高精度的生物傳感器應用成為可能

比利時魯汶2025年12月10日 /美通社/ --

Imec首次成功在300毫米晶圓上采用EUV光刻技術(shù)制造晶圓級固態(tài)納米孔。 這項創(chuàng)新將納米孔技術(shù)從實驗室規(guī)模的概念轉(zhuǎn)化為可擴展的平臺,適用于生物傳感、基因組學和蛋白質(zhì)組學領域。

納米孔技術(shù)被譽為基因組學和蛋白質(zhì)組學的變革者,但迄今為止,固態(tài)納米孔因存在變異性和集成難題,始終未能實現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)。 Imec的突破為高通量、兼容CMOS的生物傳感器陣列鋪平了道路,有望推動個性化醫(yī)療、快速診斷和分子數(shù)據(jù)存儲的開發(fā)。

其采用EUV光刻技術(shù)在300毫米晶圓上實現(xiàn)了晶圓級制造,制備出尺寸小至約10納米的納米孔,且在整個晶圓上具有高度均勻性。 該制造工藝有潛力實現(xiàn)小于5納米孔徑,隨著工藝集成技術(shù)的進一步改進,有望取得更大突破。 電氣和生物分子易位表征顯示其信噪比高達6.2。

"Imec具有實現(xiàn)這一飛躍的獨特優(yōu)勢。 我們可將傳統(tǒng)上用于存儲和邏輯領域的EUV光刻技術(shù)應用于生命科學領域。 利用我們的光刻基礎設施,我們已證明能以分子傳感所需的精度大規(guī)模制造固態(tài)納米孔,"imec的第一作者及研發(fā)項目經(jīng)理Ashesh Ray Chaudhuri表示, "這為醫(yī)療保健及其他領域的高通量生物傳感器陣列創(chuàng)造了可能。"

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